石英水晶跟石英晶振的特點(diǎn) 石英是用來(lái)承載壓電特征的裝置。石英水晶的壓電特征如下：如果壓電石英水晶的電極被置于相反的方向而且電壓作用于電極之間，那么強(qiáng)大的壓力就會(huì)作用于水晶內(nèi)部的電荷。如果水晶是正確安裝的但水晶內(nèi)部卻變形，那么就會(huì)形成一個(gè)機(jī)電系統(tǒng)，如果它能夠被適當(dāng)?shù)募せ钅敲淳蜁?huì)形成振蕩頻率。 石英晶振就是用石英材料做成的石英晶體諧振器，俗稱晶振。起產(chǎn)生頻率的作用，具有穩(wěn)定，抗干擾性能良好的，廣泛應(yīng)用于各種電子產(chǎn)品中。

人造水晶

于1977年在東京的無(wú)線電波，共建實(shí)訓(xùn)工廠的人工晶體，允許極少數(shù)成功開發(fā)人工晶體制造高壓反應(yīng)器的晶體缺陷（鉑）的專利技術(shù)于1994年大規(guī)模生產(chǎn)開發(fā)高品質(zhì)的晶體做到了。這是用在廣泛的應(yīng)用，為結(jié)晶晶體的各種產(chǎn)品中使用的材料。

關(guān)于人工晶體

人工晶體的歷史

歷史的人工晶體在意大利長(zhǎng)大人工晶體的水熱合成法，在1905年開始在喬治拉斯佩齊亞培訓(xùn)，研究開始于1953年在日本山梨大學(xué)。加入到改進(jìn)的生長(zhǎng)爐的高溫和高壓，所謂的高壓釜中，訓(xùn)練技術(shù)得到改善，那么，人工晶體工業(yè)化單位7公斤生長(zhǎng)爐產(chǎn)量開始于1959年。

然后，大批量生產(chǎn)的人工晶體的質(zhì)量和天然水晶相同的水平可能技術(shù)的進(jìn)步，促進(jìn)將高壓釜的尺寸增加，在1973年³ 1米和一個(gè)全規(guī)模大規(guī)模生產(chǎn)的高壓釜用體積比出現(xiàn)實(shí)現(xiàn)了。內(nèi)部容積為4m ³高壓釜超過(guò)，每單位生產(chǎn)量也有兩噸（2000千克）或更多。

人工晶體的特點(diǎn)

和人造水晶的發(fā)展

人工晶體的方法稱為使用（晶體熔化許多高溫度）的晶體在堿性溶液中的溶解度是不同的取決于溫度，氣氛的高溫和高壓力，在所謂的水熱合成方法，以促進(jìn)生長(zhǎng)。

稱為高壓釜中的生長(zhǎng)爐內(nèi)壓力容器，其中鈉² CO ^3的晶體生長(zhǎng)在超臨界狀態(tài)下，通過(guò)填充堿性的NaOH溶液，加熱，等等。人工晶體的生長(zhǎng)受原料被溶解在高溫度和高壓力移動(dòng)從底部到頂部溶液對(duì)流和維持在高壓釜的頂部較低的溫度比底部，被沉積晶種。根據(jù)不同的應(yīng)用，將大小調(diào)整的生長(zhǎng)條件下，具有不同特性的形狀和大小的晶種，人工晶體的取向?qū)⑴嘤?xùn)。人工晶體生長(zhǎng)足夠的管理下，具有均勻質(zhì)量的形狀和尺寸來(lái)控制。

晶種

籽晶的取向是由石英晶振制造的經(jīng)濟(jì)效果。從生長(zhǎng)在晶種切割和R Z切塊，與厚度切變振動(dòng)，這是用于高頻帶的人工晶體，所制造的中間頻帶的振動(dòng)換能器的輪廓。
已被用于X軸旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)的晶種的晶體振蕩器使用低頻帶的彎曲振動(dòng)和伸縮振動(dòng)。
這也給了一個(gè)顯著的晶體質(zhì)量的影響可能是薄薄的一層稱為生長(zhǎng)的晶體的晶種的表面上形成由異物的種子面紗。

人工晶體質(zhì)量評(píng)價(jià)

金額在人工晶體的雜質(zhì)和缺陷，影響增長(zhǎng)率，添加劑和原料。的生長(zhǎng)速率的紅外吸光系數(shù)，特別是：的人工晶體的頻率溫度特性（α，存在與Q值）的影響的重要特性。（Q值降低）和α提高生長(zhǎng)速度快，我會(huì)引起的頻率 - 溫度特性的變化。

這是石英晶體振蕩器的Q值，5泛音5MHz的振蕩器晶體片，人工晶體質(zhì)量指示符的早期，人工的Q值換能器及其制造保留的條款和條件的變化，由于不易受它被用來(lái)更準(zhǔn)確地反映晶體本身的內(nèi)部損耗。然而，晶體片直徑較大的有必要在該方法中，它不能從Z區(qū)域振動(dòng)器還。測(cè)量的Q值的Q值的估算通過(guò)測(cè)量紅外吸收系數(shù)α由振動(dòng)器的制造方法，采用目前需要很多時(shí)間和精力。具有這種方式的優(yōu)點(diǎn)在于，可以很容易地測(cè)量，可??以檢測(cè)到任何變化，由于小區(qū)域的生長(zhǎng)是可能的。

這種晶體是適合使用的，如高品質(zhì)的振蕩器的高頻帶中人工晶體的估計(jì)Q值C級(jí)或以上，所以顯示了等效的頻率 - 溫度特性和高品質(zhì)的天然水晶。α是非常小的，從生產(chǎn)特定的具體的變化在相同的特定的條件下生長(zhǎng)工序中提取樣品進(jìn)行評(píng)價(jià)時(shí)，選擇晶體在特定的最大的Z尺寸管理你。究其原因，α成比例地增加，生長(zhǎng)速率，最大結(jié)晶，因?yàn)槭境觯≦最低值）的最大α值，在同一批次中的Z尺寸。

標(biāo)準(zhǔn)規(guī)格

品種	產(chǎn)品名稱	尺寸			的蝕刻 通道 密度品位	∂3585  最大值	異物密度 品位	取向 （θ）
		X	?	Ÿ
		±0.2	±0.2	±5
?板	PB-18	9	18.0	200	一	0.050	II?	0°00'
	PB-19	9.5	19.0	200	一	0.050	II?	0°00'
	PB-20	10.5	20.0	200	一	0.050	II?	0°00'
	PB-23	23.5	18.0	185	一	0.050	II?	0°00'
	PB-31	31.0	18.0	185	一	0.050	II?	0°00'
	PB-38	65.0	38.0	185	一	0.050	II?	0°00'
	PB-41	65.0	41.0	185	一	0.050	II?	0°00'
	SB-02	53.0	46.??0	200	一	0.050	II?	0°00'
	SB-03	76.0	65.0	220	一	0.069	II?	0°00'
	SB-04	100.0	85.0	240	一	0.069	II?	0°00'

 

粒徑（μm）→	每個(gè)年級(jí)的異物密度
級(jí)↓	10-30	30-70	70-100	100多名
我一個(gè)	二	一	0	0
I B	三	二	一	一
我	六	四	二	二
二	九	五	四	三
三	十二	八	六	四

紅外吸收系數(shù)α

紅外吸收系數(shù)α級(jí)以下類別：JIS C 6704和IEC758。

級(jí)↓	每個(gè)年級(jí)的最大價(jià)值	估計(jì)Q值（參考號(hào)）
	α3585	（X104）
AA	0.015	380
一	0.024	300
乙	0.050	240
Ç	0.069	180
ð	0.100	140
ê	0.160	百

蝕刻通道密度

蝕刻通道密度，在下列幾類：一個(gè)檔次的JIS C 6704和IEC758。

級(jí)	通道數(shù)（書/厘米2）
1AA	二
1A	五
一	十
二	三十
三	百
四	300

本公司的種子質(zhì)量可以保證蝕刻通道密度2級(jí)的所有品種。
此外，在支持1級(jí)也可以選擇你的客戶購(gòu)買規(guī)格。

籽晶的取向，尺寸和位置

籽晶的取向?yàn)?°00'±15'。此外，大小的Z軸方向和1.5mm±0.5mm時(shí)，晶種包括在圖中所示的陰影部分的面積。（如果它主要是在Z軸方向上的大小，寬度為3mm或更?。?/font>

蘭伯特人工晶體標(biāo)準(zhǔn)
角
Z平面的X軸旋轉(zhuǎn)角度：	0°00'±30'
Y軸旋轉(zhuǎn)角度的X戰(zhàn)警：	0°00'±15'
Z軸旋轉(zhuǎn)角度的X戰(zhàn)警：	0°00'±15'
尺寸公差為±0.1mm在X·Z軸方向
12.5微米十點(diǎn)平均粗糙度表面粗糙度（＃80鉆石）

人工晶體的典型

人工晶體SAW器件（4英寸）

表面聲波元件是使用波沿表面振動(dòng)能量集中在壓電基片的表面上的。

SAW器件珠寶玉石質(zhì)量
外國(guó)材料等級(jí)	II或更高
紅外吸收系數(shù)	C或更高
蝕刻通道	30 / M 2

小振蕩器，濾波器人工晶體

它用于高可靠性小型晶體振蕩器全密封的密封形式，和過(guò)濾器。

小振蕩器，濾波器珠寶玉石質(zhì)量
外國(guó)材料等級(jí)	II或更高
紅外吸收系數(shù)	B或更高
蝕刻通道	30 /厘米2

對(duì)于一般的使用人造水晶

它是用在汽車發(fā)動(dòng)機(jī)控制處理器·數(shù)控機(jī)床和機(jī)器人互動(dòng)電視，傳真，等回家和國(guó)外，在其他領(lǐng)域。

小振蕩器，濾波器珠寶玉石質(zhì)量
SAW器件珠寶玉石質(zhì)量
外國(guó)材料等級(jí)	II或更高
紅外吸收系數(shù)	C或更高
蝕刻通道	30 /厘米2

 

空白標(biāo)準(zhǔn)規(guī)范

	概述	的厚度	表面光潔度	主要面	取向平		輪廓
	公差 ±0.05	公差 ±0.05		角度公差	尺寸 公差（H）	角度公差	完
圓板	Φ6.0	0.15至	我·II	±15“	±0.2	±15'	＃400
	Φ8.0	0.15至	我·II	±15“	±0.2	±15'	＃400
	Φ8.7	0.20至	我·II	±15“	±0.2	±15'	＃400
	Φ79.0	0.50	I·II·III	'±1'	±0.5	±15'	＃400
	Φ102.0	0.50	I·II·III	'±1'	±0.5	±15'	＃400
角	9×9	0.15至	我·II	±15“	-	-	第240
	10×10	0.15至	我·II	±15“	-	-	第240
	12×12	0.15至	我·II	±15“	-	-	第240
	80×80	0.50	我·II	'±1'	-	-	第240
	102×102	0.50	我·II	'±1'	-	-	第240

 

表面光潔度

（I）：＃1000（II）：＃2000（三）：拋光
厚度頻率也可以完成。
方向平面尺寸公差h的尺寸高度方向。